染色后进行还原清洗可有效去除染色过程中产生的低聚物。
还原清洗处方:
小浴比(1:4~1:6) 其他浴比
还原剂 1.2% 1.5%
增效剂 0.5% 0.7%
烧碱(片) 0.65% 0.85%
室温下加入增效剂、还原剂以及溶解好的碱液,搅拌5min后,温度升至85℃,保温20min,放水冲洗干净,加入纱线硅乳,再升温至40℃,保温15min,不冲洗,出缸。
分散染料碱性染色,工艺已经成熟,色谱齐全,很多染厂已经推广使用,分散染料碱性染色可以有效防止低聚物的析出。
来源:印染在线
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